OWAY Маска для волосся при застосуванні лужних засобів Hbalance Mask, 500 ml НФ-00005835
(НФ-00005835)
Наявність: В наявності
в наявності
Об'єм:
50 ml
500 ml
2 331 грн.
Замовити в 1 клік
OWAY Маска для волосся при застосуванні лужних засобів Hbalance Mask, 500 ml
Маска для волосся для застосування після лужних засобів, надає нейтралізуючу дію.
Відновлює нормальний рівень pH.
Робить волосся слухняними, збагачує поживними речовинами. Після хімічної обробки волосся залишається м'яким і здоровим.
Екстракт квітів апельсинового дерева і кокосове масло надає відновлюючу і антиоксидантну дію.
pH 3.0 - 4.0
Нанести на вологе волосся після шампуню. Засіб рівномірно розподілити по всій довжині волосся і залишити на 5 хвилин. Ретельно змити.
Не підходить для щоденного застосування.
Biodynamic Hibiscus - зміцнює структуру волосся зсередини. Збільшує блиск волосся і залишає його м'яким і шовковистим.
Органічне масло Перілли - широко використовується в фітотерапії, заспокоює і виконує дію проти старіння.
Бавовняний протеїн - запобігає висиханню і виконує ремонтні та відновлювальні дії на волокно волоса. Пом'якшує і живить.
Ethical Date - поживна і еластична нафту, яка покращує структуру волосяних волокон з плином часу. Він готує волосся до технічних послуг.
Рекомендовані товари













